[发明专利]一种冷备份电路的ESD保护结构及制备方法有效

专利信息
申请号: 201910228889.1 申请日: 2019-03-25
公开(公告)号: CN110071103B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 吕曼;时飞;孙永姝 申请(专利权)人: 北京时代民芯科技有限公司;北京微电子技术研究所
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06;H01L21/8232
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 高志瑞
地址: 100076 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种冷备份电路的新型ESD保护结构及制备方法,其中,该结构包括:P型衬底、P型衬底接触、叉指栅、MOS管源区、MOS管漏区、ESD注入层、第一连接接触孔、第二连接接触孔、第三连接接触孔、第四连接接触孔和硅化金属阻挡层。本发明在解决未接电的备份电路功耗过大,性能退化快的问题的同时,解决冷备份电路的高效率ESD保护的问题。
搜索关键词: 一种 备份 电路 esd 保护 结构 制备 方法
【主权项】:
1.一种冷备份电路的新型ESD保护结构,其特征在于包括:P型衬底(200)、P型衬底接触(202)、叉指栅(204)、MOS管源区(205)、MOS管漏区(206)、ESD注入层(207)、第一连接接触孔(208)、第二连接接触孔(209)、第三连接接触孔(210)、第四连接接触孔(212)和硅化金属阻挡层(211);其中,P型衬底(200)上形成P型衬底接触(202),在P型衬底(200)形成叉指栅(204),叉指栅(204)位于P型衬底接触(202)的内部;叉指栅(204)包括若干条栅,在叉指栅(204)的每条栅的两侧分别形成MOS管源区(205)和MOS管漏区(206);ESD注入层(207)覆盖于叉指栅(204)、MOS管源区(205)和MOS管漏区(206);硅化金属阻挡层(211)覆盖MOS管漏区(206)但不包括设置第三连接接触孔(210A)的区域;叉指栅(204)开设有第一连接接触孔(208),MOS管源区(205)开设有第二连接接触孔(209),MOS管漏区(206)开设有第三连接接触孔(210),P型衬底接触(202)开设有第四连接接触孔(212);P型衬底接触(202)通过第四连接接触孔(212)与其它导电层连接,最终连接至电源VDD;MOS管源区(205)通过第二连接接触孔(209)连接至其它导电层,最终连接至电源VDD;MOS管漏区(206)通过第三连接接触孔(210)连接至其它导电层,最终连接至PAD端;叉指栅(204)通过第一连接接触孔(208)与其它导电层连接,最终连接至地。
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