[发明专利]一种冷备份电路的ESD保护结构及制备方法有效
申请号: | 201910228889.1 | 申请日: | 2019-03-25 |
公开(公告)号: | CN110071103B | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 吕曼;时飞;孙永姝 | 申请(专利权)人: | 北京时代民芯科技有限公司;北京微电子技术研究所 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L29/06;H01L21/8232 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 高志瑞 |
地址: | 100076 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种冷备份电路的新型ESD保护结构及制备方法,其中,该结构包括:P型衬底、P型衬底接触、叉指栅、MOS管源区、MOS管漏区、ESD注入层、第一连接接触孔、第二连接接触孔、第三连接接触孔、第四连接接触孔和硅化金属阻挡层。本发明在解决未接电的备份电路功耗过大,性能退化快的问题的同时,解决冷备份电路的高效率ESD保护的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 备份 电路 esd 保护 结构 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种冷备份电路的新型ESD保护结构,其特征在于包括:P型衬底(200)、P型衬底接触(202)、叉指栅(204)、MOS管源区(205)、MOS管漏区(206)、ESD注入层(207)、第一连接接触孔(208)、第二连接接触孔(209)、第三连接接触孔(210)、第四连接接触孔(212)和硅化金属阻挡层(211);其中,P型衬底(200)上形成P型衬底接触(202),在P型衬底(200)形成叉指栅(204),叉指栅(204)位于P型衬底接触(202)的内部;叉指栅(204)包括若干条栅,在叉指栅(204)的每条栅的两侧分别形成MOS管源区(205)和MOS管漏区(206);ESD注入层(207)覆盖于叉指栅(204)、MOS管源区(205)和MOS管漏区(206);硅化金属阻挡层(211)覆盖MOS管漏区(206)但不包括设置第三连接接触孔(210A)的区域;叉指栅(204)开设有第一连接接触孔(208),MOS管源区(205)开设有第二连接接触孔(209),MOS管漏区(206)开设有第三连接接触孔(210),P型衬底接触(202)开设有第四连接接触孔(212);P型衬底接触(202)通过第四连接接触孔(212)与其它导电层连接,最终连接至电源VDD;MOS管源区(205)通过第二连接接触孔(209)连接至其它导电层,最终连接至电源VDD;MOS管漏区(206)通过第三连接接触孔(210)连接至其它导电层,最终连接至PAD端;叉指栅(204)通过第一连接接触孔(208)与其它导电层连接,最终连接至地。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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