[发明专利]电子设备及其使用方法在审
申请号: | 201910229350.8 | 申请日: | 2019-03-25 |
公开(公告)号: | CN110323276A | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 全祐哲;B·帕德马纳班 | 申请(专利权)人: | 半导体组件工业公司 |
主分类号: | H01L29/778 | 分类号: | H01L29/778;H01L21/335;H01L29/06 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 章蕾 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种电子设备以及使用电子设备的方法。电子设备可包括增强型高电子迁移率晶体管(HEMT),所述增强型高电子迁移率晶体管包括源极电极;漏极电极;和栅极。在一个实施方案中,所述栅极可对应于间隔开的栅极电极以及设置在所述间隔开的栅极电极之间的空间,其中空间的宽度被配置为使得连续耗尽区形成在所述空间的所有所述宽度上。在另一个实施方案中,所述栅极可以是栅极电极,所述栅极电极沿着栅极宽度方向上的线具有不均匀厚度。在另一方面,使用所述电子设备的方法可包括在瞬变周期期间,当所述HEMT处于断开状态时,当Vds>‑Vth+Vgs时使电流从所述漏极电极流动到所述源极电极。 | ||
搜索关键词: | 电子设备 栅极电极 增强型高电子迁移率晶体管 漏极电极 源极电极 栅极宽度方向 断开状态 所述空间 周期期间 不均匀 耗尽区 瞬变 配置 流动 | ||
【主权项】:
1.一种包括增强型高电子迁移率晶体管的电子设备,所述增强型高电子迁移率晶体管包括:源极电极;漏极电极;和栅极,所述栅极对应于第一组间隔开的栅极电极以及设置在所述间隔开的栅极电极之间的第一空间,其中所述第一空间的宽度被配置为使得连续耗尽区形成在所述第一空间的所有所述宽度上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于半导体组件工业公司,未经半导体组件工业公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910229350.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体结构
- 下一篇:场效应晶体管及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类