[发明专利]光刻装置、图案形成方法以及物品的制造方法有效
| 申请号： | 201910229740.5 | 申请日： | 2019-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN110320742B | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 板桥宏明;丸田卓司;中道亨;冢原友则 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻装置、图案形成方法以及物品的制造方法。光刻装置具有：形成部，对包含感光剂的基板照射光而对基板形成对位用标记；以及转印部，根据对位用标记的位置进行基板的对位，对感光剂照射曝光光束而向基板转印图案，形成部对感光剂的基底的材料照射与曝光光束不同的波长的照射光，用照射光的能量加工材料而对材料形成对位用标记。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 图案 形成 方法 以及 物品 制造 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，对基板形成图案，其特征在于，具有：形成部，对基板照射光而对所述基板形成对位用标记，所述基板包含第1材料和涂敷于所述第1材料上的感光剂；以及转印部，根据由所述形成部形成的对位用标记的位置进行所述基板的对位，对所述感光剂照射曝光光束而向所述基板转印图案，所述形成部对所述第1材料照射与所述曝光光束不同的波长的照射光，用所述照射光的能量加工所述第1材料而对所述第1材料形成对位用标记。
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