[发明专利]一种具有DLC保护膜的红外焦平面阵列探测器及其制备方法有效
申请号: | 201910232823.X | 申请日: | 2019-03-26 |
公开(公告)号: | CN109932064B | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 陈文礼;战毅;孙俊杰;孙传彬;张磊 | 申请(专利权)人: | 烟台睿创微纳技术股份有限公司 |
主分类号: | G01J5/20 | 分类号: | G01J5/20 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵青朵 |
地址: | 264006 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: |
本发明提供了一种具有DLC保护膜的红外焦平面阵列探测器的制备方法,包括以下步骤:A)将红外焦平面阵列探测器的窗口依次采用丙酮和工作液进行清洗;B)将清洗后的红外焦平面阵列探测器的窗口在真空条件下,通入氩气,进行射频等离子清洗;C)再通入碳源气体,采用射频等离子增强化学气相沉积方法在红外焦平面阵列探测器的窗口的表面沉积DLC保护膜,得到具有DLC保护膜的红外焦平面阵列探测器;所述步骤C)的射频功率为100~2500W,所述步骤C)的真空度为3×10 |
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搜索关键词: | 一种 具有 dlc 保护膜 红外 平面 阵列 探测器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种具有DLC保护膜的红外焦平面阵列探测器的制备方法,包括以下步骤:A)将红外焦平面阵列探测器的窗口依次采用丙酮和工作液进行清洗;B)将清洗后的红外焦平面阵列探测器的窗口在真空条件下,通入氩气,进行射频等离子清洗;C)再通入碳源气体,采用射频等离子增强化学气相沉积方法在红外焦平面阵列探测器的窗口的表面沉积DLC保护膜,得到具有DLC保护膜的红外焦平面阵列探测器;所述步骤C)的射频功率为100~2500W,所述步骤C)的真空度为3×10‑3~3×10‑5Pa。
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