[发明专利]一种辅助对准方法及系统有效

专利信息
申请号: 201910234065.5 申请日: 2019-03-26
公开(公告)号: CN110085545B 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 李勇;许向辉;叶林 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68;H01L21/67
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 俞涤炯
地址: 201314*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及集成电路技术领域,尤其涉及一种辅助对准方法及系统,适用于检测机台的位置对准过程中,其中包括,步骤S1、预先存储待处理晶圆的图层的对准位置信息;步骤S2、判断检测机台的位置是否对准;若是,则退出;若否,则转向步骤S3;步骤S3、调用任一对准位置信息填充至一预设图案中,将预设图案与晶圆进行模式匹配,反复进行匹配直至匹配成功,以进行光学校准。本发明的技术方案有益效果在于:提高检测机台扫描失败的几率和降低工程师的时间成本。
搜索关键词: 一种 辅助 对准 方法 系统
【主权项】:
1.一种辅助对准方法,适用于检测机台的位置对准过程中,其特征在于,包括:步骤S1、预先存储待处理晶圆的图层的对准位置信息;步骤S2、判断所述检测机台的位置是否对准;若是,则退出;若否,则转向步骤S3;所述步骤S3、调用任一所述对准位置信息填充至一预设图案中,将所述预设图案与所述晶圆进行模式匹配,反复进行匹配直至匹配成功,以进行光学校准。
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