[发明专利]用于化学气相沉积的具有热盖的晶圆载体在审
申请号: | 201910234575.2 | 申请日: | 2019-03-26 |
公开(公告)号: | CN110359031A | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 桑迪普·克里希南;Y·瑞史克夫斯基;A·谷拉瑞;利奥·陈;曼德尔·德什潘德 | 申请(专利权)人: | 维高仪器股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人: | 包莉莉;武晨燕 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供一种晶圆载体,所述晶圆载体被配置为与化学气相沉积装置一起使用,包括:板,其具有布置为彼此相对的顶表面和底表面;多个平台,其限定在所述板的所述顶表面上;一个或多个盖区段,其配置为与所述板的所述顶表面接合,所述一个或多个盖区段中的每一个限定至少一个孔,所述孔对应于所述多个平台中的一个;改进包括:对于每个平台和相应的盖区段而言:多个径向内基座,其仅设置在所述平台上以支撑相应的衬底;以及多个径向外基座,其仅设置在所述顶表面上并且配置为支撑相应的盖区段。 | ||
搜索关键词: | 顶表面 晶圆载体 配置 化学气相沉积装置 化学气相沉积 彼此相对 接合 内基座 外基座 支撑 衬底 热盖 种晶 改进 | ||
【主权项】:
1.一种晶圆载体,其特征在于,所述晶圆载体被配置为与化学气相沉积装置一起使用,所述晶圆载体包括:板,其具有布置为彼此相对的顶表面和底表面;多个平台,其限定在所述板的所述顶表面上;一个或多个盖区段,其配置为与所述板的所述顶表面接合,所述一个或多个盖区段中的每一个限定至少一个孔,所述孔对应于所述多个平台中的一个;改进包括:对于每个平台和相应的盖区段而言:多个径向内基座,其仅设置在所述平台上以支撑相应的衬底;以及多个径向外基座,其仅设置在所述顶表面上并且配置为支撑相应的盖区段。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的