[发明专利]低电压驱动的常开型太赫兹超表面调制器及制备方法有效

专利信息
申请号: 201910238081.1 申请日: 2019-03-27
公开(公告)号: CN109814283B 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: 文岐业;唐亚华;张岱南;何雨莲;杨青慧;陈智;张怀武;沈仕远 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G02F1/01 分类号: G02F1/01;H01L21/77
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 敖欢;葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种低电压驱动的常开型太赫兹超表面调制器及制备方法,包括高阻硅衬底、埋栅电极、二氧化钒薄膜以及超表面层微结构,高阻硅衬底表面上侧依次是二氧化钒薄膜、超表面层微结构;二氧化钒薄膜包括正方形二氧化钒薄膜块和隔离二氧化钒薄膜,超表面层微结构由若干个金属结构单元周期性排列构成,每个金属结构单元为一个正方形金属块,每个正方形金属块中部设有一个H型槽,H型槽中间的横向段下方设有一个正方形二氧化钒薄膜块,每个正方形金属块的底部通过金属条相连,并最终与漏电极相连接。本器件可广泛应用于太赫兹波通信系统、太赫兹波探测、太赫兹波成像等领域。
搜索关键词: 电压 驱动 常开 赫兹 表面 调制器 制备 方法
【主权项】:
1.一种低电压驱动的常开型太赫兹超表面调制器,其特征在于:包括高阻硅衬底(1)、埋栅电极(2)、二氧化钒薄膜以及超表面层微结构(4),埋栅电极(2)是利用扩散工艺对高阻硅衬底(1)进行选区掺杂制备而形成于高阻硅衬底(1)内部,高阻硅衬底(1)表面上侧依次是二氧化钒薄膜、超表面层微结构(4);二氧化钒薄膜包括正方形二氧化钒薄膜块(3)和隔离二氧化钒薄膜(31),超表面层微结构(4)由若干个金属结构单元周期性排列构成,每个金属结构单元为一个正方形金属块(8),每个正方形金属块中部设有一个H型槽(7),H型槽中间的横向段下方设有一个正方形二氧化钒薄膜块(3),H型槽中间的横向段和正方形二氧化钒薄膜块(3)接触,每个正方形金属块和埋栅电极的接触处通过隔离二氧化钒薄膜(31)隔离,每个正方形金属块的底部通过金属条(6)相连,并最终与漏电极相连接。
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