[发明专利]一种单层及多层金属纳米结构的制备方法在审
| 申请号： | 201910241581.0 | 申请日： | 2019-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN109814334A | 公开（公告）日： | 2019-05-28 |
| 发明（设计）人： | 褚金奎;樊元义;张然;刘泽;黄达 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 温福雪;侯明远 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种单层及多层金属纳米结构的制备方法，步骤如下：采用热纳米压印工艺获取柔性模板，得到与原始母模板互补的纳米结构；采用薄膜沉积工艺，在上述柔性模板纳米结构凸起和凹槽部分分别形成金属薄膜；采用滴胶旋涂工艺，在目标基底旋涂紫外固化纳米压印光刻胶；采用紫外固化纳米压印工艺，利用紫外固化键合力，将柔性模板结构区域凸起部分的表层金属转印到涂有光刻胶介质层的目标基底。利用该方法，在目标基底上重复上述涂胶、转印工艺，得到多层金属纳米结构。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米结构 多层金属 柔性模板 目标基 紫外固化纳米压印 光刻胶 单层 凸起 旋涂 制备 薄膜沉积工艺 纳米压印工艺 表层金属 结构区域 金属薄膜 转印工艺 紫外固化 键合力 介质层 母模板 滴胶 涂胶 转印 重复 | ||
【主权项】：
1.一种单层及多层金属纳米结构的制备方法，其特征在于，步骤如下：步骤一，采用热纳米压印工艺获取柔性模板，得到与原始母模板互补的纳米结构；热纳米压印过程工艺参数：施加气压30‑50bar，温度160‑180℃，压印时间2‑5min；步骤二，采用薄膜沉积工艺，在步骤一得到的柔性模板纳米结构表面沉积金属薄膜，保证柔性模板纳米结构侧壁不形成金属薄膜，且凹陷部分沉积金属薄膜后的高度低于柔性模板纳米结构凸起部分的高度；步骤三，采用滴胶旋涂工艺，在目标基底旋涂紫外固化纳米压印光刻胶，纳米压印光刻胶的旋涂厚度小于100nm；步骤四，采用紫外固化纳米压印工艺，利用紫外固化键合力，将柔性模板纳米结构的凸起部分的金属薄膜转印到涂有纳米压印光刻胶的目标基底上；紫外固化纳米压印工艺过程：施加气压使柔性模板纳米结构与目标基底上的纳米压印光刻胶充分接触；打开紫外光源，柔性模板纳米结构区域透过紫外光，纳米压印光刻胶固化，形成紫外固化键合力；脱模，柔性模板纳米结构凸起部分的金属薄膜转印到涂有纳米压印光刻胶的目标基底上；紫外固化纳米压印过程工艺参数：施加气压5‑15bar，温度30‑40℃，紫外曝光时间2‑4min。
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