[发明专利]光学复杂曲面元件的磁流变抛光补偿加工方法、系统及介质

摘要

本发明公开了一种光学复杂曲面元件的磁流变抛光补偿加工方法、系统及介质，本发明的磁流变抛光补偿加工方法包括：获取平面去除函数；映射得到不同曲率下的球面去除函数；针对待加工工件面形区域内的每一个驻留点，拟合计算驻留点附近的复杂曲面局部区域的最接近球面，以该复杂曲面局部区域的最接近球面的曲率对应的球面去除函数近似作为该驻留点附近的复杂曲面局部区域的去除函数；建立基于线性方程组模型的驻留时间求解算法，仿真求得各个驻留点的驻留时间分布及面形残差，指导待加工工件的磁流变抛光。本发明能够有效保证了加工过程中的确定性，且提高了加工过程中的收敛率。

主权项

1.一种光学复杂曲面元件的磁流变抛光补偿加工方法，其特征在于实施步骤包括：1)对与待加工工件相同材料的平面工件获取平面去除函数F_flat；2)对待加工工件建立相同工况不同曲率半径下球面去除函数和平面去除函数的映射关系，根据该映射关系将平面去除函数F_flat映射得到不同曲率下的球面去除函数F_j‑sphere；3)针对待加工工件面形区域内的每一个驻留点，拟合计算驻留点附近的复杂曲面局部区域S_j‑asphere的最接近球面S_j‑sphere，以该复杂曲面局部区域S_j‑asphere的最接近球面S_j‑sphere的曲率对应的球面去除函数F_j‑sphere近似作为该驻留点附近的复杂曲面局部区域的去除函数；4)根据去除函数动态变化性，建立基于线性方程组模型的驻留时间求解算法，仿真求得各个驻留点的驻留时间分布及面形残差；5)根据得到的各个驻留点的驻留时间分布及面形残差指导待加工工件的磁流变抛光。