[发明专利]制作冲压纳米和/或微米结构的金属印模的方法及装置在审
| 申请号： | 201910244823.1 | 申请日： | 2019-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN110320743A | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 克里斯汀·施奈德;安热莉克·卢-迪尼;马克·施尼佩尔;大卫·卡尔魏特;罗杰·克朗恩布尔;迈克尔·德维尔德;罗米·琳达·马雷克 | 申请（专利权）人： | 瑞士CSEM电子显微技术研发中心 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 谢攀;王春伟 |
| 地址： | 瑞士纳*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制作用于在金属装置(4)上冲压纳米或微米结构的金属印模的方法，包括在印模上制作3D结构化冲压区域(3)的以下步骤：a)提供具有结构化表面(30a)的主件(30)，并将所述主件(30a)复制到软印模(31)的表面中；b)使用可交联材料在软印模(31a)上形成压印件(32)，以在压印件(32)的相对侧与金属印模的所述表面部分接触之前、同时或之后形成压印件结构化表面(32a)，并且去除所述软印模(31)暴露所述压印件结构化表面(32a)；c)使用第一组蚀刻条件对所述表面(32a)进行蚀刻开口；d)使用不同于第一组蚀刻条件的第二组蚀刻条件，蚀刻金属印模的表面以形成所述冲压区域(3)。 | ||
| 搜索关键词： | 金属印模 冲压 压印件 结构化表面 蚀刻条件 软印模 蚀刻 微米结构 主件 制作 表面部分接触 可交联材料 金属装置 印模 去除 开口 复制 暴露 | ||
【主权项】：
1.一种制作用于在金属装置(4)上冲压纳米和/或微米结构的金属印模(1)的方法，其中该方法至少包括以下给定顺序的步骤，用于在金属印模(1)的至少一表面部分上产生3D拓扑结构化的冲压区域(3)：a)提供具有表示所述纳米和/或微米结构的主3D拓扑结构化表面(30a)的主工具(30)，并且在软印模(31)的表面中复制所述主3D拓扑结构化表面(30a)，以形成软印模3D拓扑结构化表面(31a)；b)使用可聚合和/或可交联有机压印材料在软印模3D拓扑结构化表面(31a)上形成压印件(32)，以在压印件(32)的相对侧与金属印模(1)的所述表面部分接触之前、同时或之后，在压印件(32)的一个面上形成压印件3D拓扑结构化表面(32a)，并且去除所述软印模(31)暴露所述压印件3D拓扑结构化表面(32a)；c)使用第一组蚀刻条件对所述压印件3D拓扑结构化表面(32a)进行蚀刻开口，以仅将压印件3D拓扑结构化表面(32a)的大部分凹陷部分暴露于空气；d)使用不同于第一组蚀刻条件的第二组蚀刻条件来蚀刻金属印模(1)的金属表面以形成所述3D拓扑结构化冲压区域(3)。
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