[发明专利]抛物柱面的绘制方法、装置、设备及存储介质有效
申请号: | 201910246441.2 | 申请日: | 2019-03-28 |
公开(公告)号: | CN109947339B | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | 王防修 | 申请(专利权)人: | 武汉轻工大学 |
主分类号: | G06F3/0484 | 分类号: | G06F3/0484;G06T17/30 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
地址: | 430023 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明属于计算机技术领域,公开了一种抛物柱面的绘制方法、装置、设备及存储介质。该方法包括:接收用户触发的抛物柱面的绘制指令,从绘制指令中提取抛物柱面方程数据;根据抛物柱面方程数据,确定抛物柱面对应的三级抛物柱面模型;根据三级抛物柱面模型,查找抛物柱面对应的绘图坐标模型,并从抛物柱面方程数据中提取绘图参数;根据绘图参数和绘图坐标模型,绘制抛物柱面。通过上述方式,大大降低了抛物柱面的绘制难度,使得不具备专业绘图知识的用户也可以快速、准确的绘制各种类型的抛物柱面。 | ||
搜索关键词: | 柱面 绘制 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
【主权项】:
1.一种抛物柱面的绘制方法,其特征在于,所述方法包括:接收用户触发的抛物柱面的绘制指令,从所述绘制指令中提取抛物柱面方程数据;根据所述抛物柱面方程数据,确定所述抛物柱面对应的三级抛物柱面模型;根据所述三级抛物柱面模型,查找所述抛物柱面对应的绘图坐标模型,并从所述抛物柱面方程数据中提取绘图参数;根据所述绘图参数和所述绘图坐标模型,绘制所述抛物柱面。
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