[发明专利]一种原位制备超光滑薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201910246450.1 申请日: 2019-03-27
公开(公告)号: CN109972106B 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 胡超权;郭凯瑜;文懋;郑伟涛 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06
代理公司: 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 代理人: 段红玉
地址: 130000 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明涉及薄膜技术领域,具体涉及一种原位制备超光滑薄膜的方法;本发明降低表面粗化速率的微观原因是减小上下坡扩散概率,清楚的解释了薄膜粗化现象的微观原理;并通过引入薄的非晶层等手段,抑制上坡扩散将粗化速率大幅度的减小,进而制备出了母体材料结构不变的超光滑的薄膜。原位制备超光滑膜的方法,制备工艺简单、效率高,制备出的薄膜不仅表面光滑而且厚度也能够达到1μm以上,广泛的适用于各种对光滑表面有需求的涂层应用,比如器械滑动部件,油水分离器等。
搜索关键词: 一种 原位 制备 光滑 薄膜 方法
【主权项】:
1.一种原位制备超光滑薄膜的方法,包括母体材料,其特征在于,所述母体材料中周期的引入小于每周期中母体材料厚度的非晶层,利用包裹作用抑制薄膜生长过程中的促进表面粗化的增原子上坡扩散,最终生长出母体材料结构不变的超光滑的膜材料。
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