[发明专利]一种6μm双光低翘曲电解铜箔用添加剂及该电解铜箔的生产工艺在审
| 申请号： | 201910247097.9 | 申请日： | 2019-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN109763152A | 公开（公告）日： | 2019-05-17 |
| 发明（设计）人： | 李应恩;裴晓哲;樊斌锋;李晓晗;彭肖林;何晨曦 | 申请（专利权）人： | 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 |
| 主分类号： | C25D1/04 | 分类号： | C25D1/04;C25D3/38 |
| 代理公司： | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人： | 时立新 |
| 地址： | 472500 河南省三门峡*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明为进一步降低6μm电解铜箔的翘曲问题，提供一种6μm双光低翘曲电解铜箔用添加剂，所述添加剂由浓度为2‑6g/L的KH‑5水溶液、浓度为4‑8g/L的低分子胶水溶液和浓度为4‑8g/L的聚二硫二丙烷磺酸钠水溶液组成，且在电沉积生成铜箔时，所述添加剂三种组分的水溶液分别按KH‑5为50‑100mL/min，低分子胶为50‑100mL/min，聚二硫二丙烷磺酸钠为100‑150mL/min的流量加入到硫酸铜电解液中，且硫酸铜电解液的上液流量为40‑60m3/h。本发明所生产的铜箔的翘曲高度降低至5mm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 电解铜箔 添加剂 聚二硫二丙烷磺酸钠 硫酸铜电解液 低分子 低翘曲 双光 铜箔 翘曲高度降低 胶水溶液 电沉积 翘曲 上液 生产工艺 生产 | ||
【主权项】：
1.一种6μm双光低翘曲电解铜箔用添加剂，其特征在于，所述添加剂由浓度为2‑6g/L 的KH‑5水溶液、浓度为4‑8g/L的低分子胶水溶液和浓度为4‑8g/L的聚二硫二丙烷磺酸钠水溶液组成，且在电沉积生成铜箔时，所述添加剂三种组分的水溶液分别按KH‑5为50‑100mL/min，低分子胶为50‑100mL/min，聚二硫二丙烷磺酸钠为100‑150mL/min的流量加入到硫酸铜电解液中，且硫酸铜电解液的上液流量为40‑60m3/h。
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