[发明专利]一种具有基底普适性和持久稳定性的防污抗菌涂层的制备方法在审

专利信息
申请号: 201910249980.1 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN110013571A 公开(公告)日: 2019-07-16
发明(设计)人: 陈鑫;袁萍耘;郭晓燕;于小倩;田然;田雨 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: A61L31/16 分类号: A61L31/16;A61L31/14;A61L31/10;A61L27/50;A61L27/54;A61L27/34
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 徐文权
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种具有基底普适性和高度稳定性的防污抗菌涂层及其制备方法和应用,以阳离子聚合物聚二烯丙基二甲基氯化铵(PDDA)和阴离子聚合物聚苯乙烯磺酸钠(PSS)的层层自组装为基础,在组装层中引入了PEG修饰的抗菌肽聚赖氨酸(ε‑PL‑PEG‑COOH),使得ε‑PL‑PEG‑COOH充斥着整个组装层。制备的防污抗菌涂层具有优良的防污抗菌能力,且能在苛刻生理条件及外界应力损伤等条件下长期保持有效的防污抗菌性能,此外,由于其能减少蛋白质、血小板和细胞碎片的调节层对涂层的污染,防止涂层抗菌性能被破坏,因而非常适用于植入式生物医学设备表面涂层的制备。本发明公开的方法,原料来源广、成本低,有利于规模化生产。采用的层层自组装技术工艺成熟,操作简单,适合规模化放大生产。
搜索关键词: 防污 抗菌涂层 制备 层层自组装 抗菌性能 普适性 基底 聚二烯丙基二甲基氯化铵 组装 聚苯乙烯磺酸钠 制备方法和应用 生物医学设备 阳离子聚合物 阴离子聚合物 持久稳定性 高度稳定性 规模化生产 血小板 表面涂层 放大生产 技术工艺 聚赖氨酸 抗菌能力 生理条件 细胞碎片 应力损伤 调节层 规模化 抗菌肽 植入式 蛋白质 引入 成熟 污染
【主权项】:
1.一种具有基底普适性和持久稳定性的防污抗菌涂层,其特征在于,所述防污抗菌涂层是在阴阳离子聚合物薄膜的组装层间镶嵌有聚乙二醇修饰的抗菌肽聚赖氨酸;其中,所述阴阳离子聚合物薄膜是由阳离子聚合物聚二烯丙基二甲基氯化铵和阴离子聚合物聚苯乙烯磺酸钠配合制成。
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