[发明专利]面向盘磨系统粉体粒度的随机分布控制实验装置及方法在审
申请号: | 201910250610.X | 申请日: | 2019-03-29 |
公开(公告)号: | CN109847921A | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 李明杰;周平;赵向志;刘林;高峰;汪曙光 | 申请(专利权)人: | 东北大学;河南黄河田中科美压力设备有限公司;河南黄河旋风股份有限公司 |
主分类号: | B02C25/00 | 分类号: | B02C25/00;B02C7/06;B02C7/14;G01N1/28;G06N3/04;G06N3/08;G06F17/11 |
代理公司: | 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 | 代理人: | 李运萍 |
地址: | 110819 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及一种面向盘磨系统粉体粒度的随机分布控制实验装置及方法,属于分布控制技术领域。实验装置包括螺旋喂料控制装置、磨机转速调节装置、磨盘间隙伺服控制装置、取样装置、激光粒度仪、控制柜和上位机;实验装置的控制方法包括:1)初始设置;2)启动盘磨系统;3)取样装置进行取样;4)激光粒度仪检测实际粉体粒度分布的PDF形状;5)通过随机分布控制算法对初始设置进行更新。本发明可以用于验证一系列随机分布控制算法,为教学和科研提供较好的实验平台;可以有效实现随机分布系统输出随机变量的非高斯分布形状的控制,而且也可以对输出随机变量的均值和方差的进行有效控制。 | ||
搜索关键词: | 实验装置 随机分布 激光粒度仪 初始设置 粉体粒度 控制算法 盘磨系统 取样装置 随机变量 粉体粒度分布 伺服控制装置 随机分布系统 喂料控制装置 非高斯分布 调节装置 分布控制 磨机转速 磨盘间隙 实验平台 有效控制 有效实现 输出 控制柜 启动盘 上位机 方差 取样 验证 检测 更新 教学 科研 | ||
【主权项】:
1.一种面向盘磨系统粉体粒度的随机分布控制实验装置,采用盘磨系统,其特征在于,所述实验装置包括:螺旋喂料控制装置、磨机转速调节装置、磨盘间隙伺服控制装置、取样装置、激光粒度仪、控制柜和上位机;所述盘磨系统采用立式双盘磨粉机,包括动磨盘和相对应的静磨盘;所述螺旋喂料控制装置包括螺旋喂料器、直流电机1和电子秤;所述螺旋喂料器与直流电机1连接;所述电子秤与上位机连接,用于测量实际螺旋喂料量;所述磨机转速调节装置,包括变频器和三相异步电动机;三相异步电动机连接盘磨系统的动磨盘,在物料进入磨区后,动磨盘在三相异步电动机带动下转动;所述变频器安装在控制柜内;所述磨盘间隙伺服控制装置包括交流伺服电机、减速器和位移传感器;交流伺服电机连接减速器,减速器连接盘磨装置的动磨盘,位置传感器安装到所述盘磨系统中连接动磨盘的驱动轴上,并与上位机连接;所述取样装置包括直流电机2、取样套管和粉体回收箱;所述取样套管分别与盘磨系统的出粉口和粉体回收箱连接;根据激光粒度仪的检测周期,设定直流电机2的启动时间和停止时间;所述控制柜内部设置PLC;所述PLC分别与螺旋喂料控制装置的直流电机1、取样装置的直流电机2和盘磨间隙的交流伺服电机相连;所述变频器与磨机转速调节装置的三相异步电机相连;所述PLC和变频器均与上位机连接,接收上位机发送的指令。
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