[发明专利]一种钇铝石榴石晶体的高效高质量化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201910250862.2 | 申请日： | 2019-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN109913133B | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 金洙吉;张自力;韩晓龙;慕卿;朱祥龙 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 李晓亮;潘迅 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种钇铝石榴石晶体的高效高质量化学机械抛光液，属于硬脆材料超精密加工领域。室温下，将磨料氧化锆、硅酸钠、氧化镁分别加入去离子水中，超声设备中震荡10分钟得到化学机械抛光液。该化学机械抛光液中，氧化锆浓度为0.02～0.12g/ml，粒径为0.02～0.20μm，所述的硅酸钠浓度为0.03～0.15g/ml，所述的氧化镁浓度为1～5g/L。采用本发明的抛光液对钇铝石榴石晶体进行抛光加工，钇铝石榴石晶体可以获得较高的表面质量和抛光材料去除率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石榴石 晶体 高效 质量 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1.一种钇铝石榴石晶体的高效高质量化学机械抛光液，其特征在于，室温下，将磨料氧化锆、硅酸钠、氧化镁分别加入去离子水中，超声震荡得到化学机械抛光液；所述化学机械抛光液中，氧化锆浓度为0.02～0.12g/ml，粒径为0.02～0.20μm，所述的硅酸钠浓度为0.03～0.15g/ml，所述的氧化镁浓度为1～5g/L。
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