[发明专利]一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置

摘要

本发明涉及电解铜箔生产设备技术领域，具体地，涉及一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置，包括有多个引导密封圈的引导轮组件、清洁装置和工作台，所述工作台的端均设置有清洁水箱，工作台两侧均设置有用于将密封圈按压贴合在阴极辊上的按压装置，所述工作台的两侧还设置有驱动按压装置转动的驱动组件，引导轮组件设置在按压装置的侧部，清洁水箱的上方的一侧设置有导入轮，清洁水箱的另一侧设置有导出轮，清洁装置包括有清洁组件和水平移动组件，所述水平移动组件设置在清洁水箱的侧壁上，水平移动组件的输出端上竖直设置有安装杆，所述清洁组件安装在安装杆上，并且清洁组件的输出端延伸至清洁箱内，本装置可以高效清洁密封圈。

主权项

1.一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置，其特征在于：包括有多个引导密封圈的引导轮组件、清洁装置和安装有阴极辊的工作台(1)，所述工作台(1)的端均设置有清洁水箱(2)，工作台(1)两侧均设置有用于将密封圈按压贴合在阴极辊上的按压装置(3)，所述工作台(1)的两侧还设置有驱动按压装置(3)转动的驱动组件(4)，引导轮组件设置在按压装置(3)的侧部，清洁水箱(2)的上方的一侧设置有导入轮(5)，清洁水箱(2)的另一侧设置有导出轮(6)，清洁水箱(2)内还设置有多个按压轮(7)，清洁装置包括有清洁组件(8)和水平移动组件(9)，所述水平移动组件(9)设置在清洁水箱(2)的侧壁上，水平移动组件(9)的输出端上竖直设置有安装杆(10)，所述清洁组件(8)安装在安装杆(10)上，并且清洁组件(8)的输出端延伸至清洁箱内。