[发明专利]一种利用饱和蒸汽压提高蒸发束流稳定性的组合坩埚和具有该坩埚的源炉有效
| 申请号： | 201910259731.0 | 申请日： | 2019-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN109898058B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 聂越峰;赵蕴琦;臧一鹏 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 江苏瑞途律师事务所 32346 | 代理人： | 蒋海军;吴雪健 |
| 地址： | 210046 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用饱和蒸汽压提高蒸发束流稳定性的组合坩埚和具有该坩埚的源炉，属于薄膜生长技术领域。本发明的组合坩埚包括坩埚上部和坩埚下部，坩埚上部通过支撑台连接坩埚下部，支撑台上设置有活动限流组件，活动限流组件为可拆卸装置，活动限流组件上设置有限流孔。本发明通过在支撑台放入限流组件，使得坩埚装料区域达到饱和蒸汽压，控制蒸发速率使其完全依赖于可以稳定控制的坩埚温度，避免生长过程中蒸发源材料表面形貌变化对蒸发束流的影响，大幅提高束流稳定性以制备更高质量的薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 饱和 蒸汽 提高 蒸发 稳定性 组合 坩埚 具有 | ||
【主权项】：
1.一种利用饱和蒸汽压提高蒸发束流稳定性的组合坩埚，其特征在于：所述的坩埚(100)从上至下依次设置有坩埚上部(110)和坩埚下部(120)，所述的坩埚上部(110)通过支撑台(130)连接坩埚下部(120)，所述的支撑台(130)上设置有活动限流组件(200)，活动限流组件(200)上设置有限流孔(210)，限流孔(210)垂直于活动限流组件(200)的表面。
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