[发明专利]基于光学投影层析正弦图标定旋转中心的方法及装置

摘要

本发明公开了基于光学投影层析正弦图标定旋转中心的方法及装置，所述方法包括：标记物和样品的投影旋转中心相同，得到所述第一截面正弦图和第二截面正弦图，计算第一截面正弦图的平衡位置，通过对所述平衡位置到第一截面正弦图上边缘和下边缘的距离进行计算，得到目标高度值，对第二截面正弦图进行纵向裁剪或纵向修补，所述纵向裁剪和纵向修补的高度值均为目标高度值，对纵向裁剪或纵向修补后的第二截面正弦图进行反投影重建，得到样品的目标重建截面图。本发明通过引入标记物作为参考物，快速计算出样品的投影旋转中心，不受样品结构复杂性影响，实现投影旋转中心校正，降低重建截面的伪影，提高成像质量。

主权项

1.基于光学投影层析正弦图标定旋转中心的方法，其特征在于，所述方法包括：标记物和样品的投影旋转中心相同；得到所述标记物横切截面的第一截面正弦图和所述样品横切截面的第二截面正弦图；得到所述第一截面正弦图上的正弦曲线的纵坐标的最大值和最小值；通过所述最大值和最小值得到所述正弦曲线的平衡位置的纵坐标值；得到所述平衡位置与所述第一截面正弦图的上边缘的纵向距离，记为第一距离；得到所述平衡位置与所述第一截面正弦图的下边缘的纵向距离，记为第二距离；计算所述第一距离与第二距离的差值，得到目标高度值；若第一距离大于第二距离，则对所述第二截面正弦图的上边缘进行纵向裁剪或对所述第二截面正弦图的下边缘进行纵向修补；若第二距离大于第一距离，则对所述第二截面正弦图的下边缘进行纵向裁剪或对所述第二截面正弦图的上边缘进行纵向修补；所述纵向裁剪和纵向修补的纵向高度值均为目标高度值；对纵向裁剪或纵向修补后的第二截面正弦图进行反投影重建，得到样品的目标重建截面图。