[发明专利]一种高厚宽比微纳结构的制造方法及装置有效
申请号: | 201910261085.1 | 申请日: | 2019-04-02 |
公开(公告)号: | CN110127594B | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 徐洲龙;刘振东;陈建魁;吴学洲;王培琳 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 李智;曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种高厚宽比微纳结构制造方法及装置,属于柔性电子制造邻域。该方法具体为:向基板上已喷印的微纳液滴图案施加电场,诱导微纳液滴图案的边缘横向收缩且纵向拉伸,形成高厚宽比微纳结构。装置包括上电极板、下电极板和外置高压放大器系统,上电极板、下电极板的导线连接端分别连接外置高压放大器系统,工作中已喷印微纳液滴图案的基板放置于下电极板上,外置高压放大器系统启动在上、下电极板之间形成电场,诱导微纳液滴图案边缘横向收缩并纵向拉伸形成高厚宽比微纳结构。本发明通过电场诱导产生高厚宽比的微纳图案,显著提高了微纳结构的制造效率,满足精度要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 高厚宽 结构 制造 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种高厚宽比微纳结构制造方法,其特征在于,该方法具体为:向基板上已喷印的微纳液滴图案施加电场,诱导微纳液滴图案的边缘横向收缩且纵向拉伸,形成高厚宽比微纳结构。
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