[发明专利]图像传感器及形成图像传感器的方法有效

专利信息
申请号: 201910263897.X 申请日: 2019-04-03
公开(公告)号: CN109935607B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 吴明;林宗贤;吴孝哲;吴龙江;熊建锋;赵培培 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 田菁
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本公开涉及一种图像传感器,包括像素单元,所述像素单元包括:第一半导体材料层,在其中形成有光电二极管;位于所述第一半导体材料层之下的第二半导体材料层,在其中形成有用于所述光电二极管的浮置扩散区;位于所述第二半导体材料层之下的第三半导体材料层,在其中形成有用于所述像素单元的晶体管的有源区;第一电介质材料层,位于所述第一半导体材料层和所述第二半导体材料层之间;以及第二电介质材料层,位于所述第二半导体材料层和所述第三半导体材料层之间。本公开涉及形成图像传感器的方法。本公开既能防止浮置扩散区漏电,又能不减少光电二极管的面积。
搜索关键词: 图像传感器 形成 方法
【主权项】:
1.一种图像传感器,包括像素单元,所述像素单元包括:第一半导体材料层,在其中形成有光电二极管;位于所述第一半导体材料层之下的第二半导体材料层,在其中形成有用于所述光电二极管的浮置扩散区;位于所述第二半导体材料层之下的第三半导体材料层,在其中形成有用于所述像素单元的晶体管的有源区;第一电介质材料层,位于所述第一半导体材料层和所述第二半导体材料层之间;以及第二电介质材料层,位于所述第二半导体材料层和所述第三半导体材料层之间。
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