[发明专利]碳纳米材料的穿孔方法以及过滤器成形体的制造方法有效
| 申请号： | 201910268723.2 | 申请日： | 2015-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN109908768B | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 金子克美;高城寿雄;村田克之 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人信州大学;寿控股有限公司 |
| 主分类号： | B01D69/10 | 分类号： | B01D69/10;B01D69/12;C02F1/44;C01B32/194;C01B32/15 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供碳纳米材料的穿孔方法以及过滤器成形体的制造方法。本发明的课题在于，在用于过滤器等的石墨烯、碳纳米管、碳纳米角、其它的碳纳米材料上以良好的精度均匀地形成所期望尺寸的孔。一种碳纳米材料的穿孔方法，其是在碳纳米材料上形成所期望尺寸的孔的碳纳米材料的穿孔方法，其特征在于，将上述碳纳米材料在160‑250℃的含氧空气中低温加热保持规定的时间，通过控制加热时间的长短，在碳纳米材料上均匀地形成所期望尺寸的孔。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 材料 穿孔 方法 以及 过滤器 成形 制造 | ||
【主权项】：
1.一种方法，其是具有石墨烯层作为过滤材料的过滤器成形体的制造方法，具有如下工序：在石墨烯用初始基板上形成的石墨烯层上贴附预先穿设有通水孔的支持体层的工序，该支持体层包含负型光致抗蚀剂膜；在160‑250℃的含氧空气中将上述石墨烯层低温加热保持规定的时间从而在所述石墨烯层形成通水孔的工序；将所述光致抗蚀剂曝光从而稳定的工序。
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