[发明专利]一种可自由调控的中心对称涡旋光束掩模板的设计方法有效

专利信息
申请号: 201910270267.5 申请日: 2019-04-04
公开(公告)号: CN109917546B 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 李新忠;张浩;马海祥 申请(专利权)人: 河南科技大学
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B27/09
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 代理人: 王学鹏
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 一种可自由调控的中心对称涡旋光束掩模板的设计方法,结合一个中心对称螺旋相位因子,一个锥透镜透过率函数和一个闪耀光栅,得到该中心对称涡旋光束掩模板的复透过率函数t;将该复透过率函数t通过计算机加载到空间光调制器中,即得到可自由调控的中心对称涡旋光束掩模板。本发明所设计的掩模板可以实现在该掩模板的远场产生光瓣大小以及光环半径可调的中心对称涡旋光束;其光环上左右两侧的光瓣大小由相位重建因子PRF控制,其光环半径大小由锥透镜的锥角大小来控制,因而在微粒操纵领域中具有非常重要的应用前景。
搜索关键词: 一种 自由 调控 中心对称 涡旋 光束 模板 设计 方法
【主权项】:
1.一种可自由调控的中心对称涡旋光束掩模板的设计方法,其特征在于:结合一个中心对称螺旋相位因子、一个锥透镜透过率函数和一个闪耀光栅,得到该中心对称涡旋光束掩模板的复透过率函数t,其复透过率函数具体表达式为:t=tαexp[i·(angle(Ec)+P)]其中,tα为锥透镜透过率函数;Ec为中心对称螺旋相位因子;P为闪耀光栅的相位表达式,angle(·)为对该中心对称螺旋相位因子求相位的函数;将该复透过率函数t通过计算机加载到空间光调制器中,即得到可自由调控的中心对称涡旋光束掩模板。
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