[发明专利]气体分析装置有效

专利信息
申请号: 201910271120.8 申请日: 2019-04-04
公开(公告)号: CN110346325B 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 松尾純一;宮阪俊樹;川島拓也;廣野守 申请(专利权)人: 横河电机株式会社
主分类号: G01N21/39 分类号: G01N21/39
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆嘉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种气体分析装置包括:光源,其被配置为向目标气体发射激光束;反射体,其反射激光束;光接收装置,其接收由反射体反射的激光束;容器,其容纳光源和光接收装置;对准机构,其包括第一插入构件,所述第一插入构件从容器的外部插入到容器的内部,以沿着与激光束的照射方向交叉的平面移动光源和光接收装置中的至少一个。
搜索关键词: 气体 分析 装置
【主权项】:
1.一种气体分析装置,包括:光源,所述光源被配置为向目标气体发射激光束;反射体,所述反射体反射所述激光束;光接收装置,所述光接收装置接收由所述反射体反射的所述激光束;容器,所述容器容纳所述光源和所述光接收装置;以及对准机构,所述对准机构包括插入构件,所述插入构件从所述容器的外部插入到所述容器的内部,以沿着与所述激光束的照射方向交叉的平面移动所述光源和所述光接收装置中的至少一个。
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