[发明专利]包括双极晶体管的集成电路在审

专利信息
申请号: 201910272414.2 申请日: 2019-04-04
公开(公告)号: CN110349953A 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: P·波伊文;J·J·法戈;E·佩蒂特普瑞兹;E·苏谢尔;O·韦伯 申请(专利权)人: 意法半导体(克洛尔2)公司;意法半导体(鲁塞)公司
主分类号: H01L27/082 分类号: H01L27/082;H01L21/8222;H01L27/24
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开的实施例涉及包括双极晶体管的集成电路。本公开涉及包括一行或多行晶体管的集成电路和方法。在一个实施例中,集成电路包括双极晶体管行,该双极晶体管行包括多个第一导电区域、第二导电区域以及共用基极,共用基极位于第一导电区域和第二导电区域之间。绝缘沟槽与双极晶体管行中的每个双极晶体管接触。导电层位于绝缘沟槽和共用基极上,位于第一导电区域之间。间隔件层位于导电层和第一导电区域之间。
搜索关键词: 双极晶体管 导电区域 集成电路 绝缘沟槽 导电层 间隔件层 晶体管 多行
【主权项】:
1.一种集成电路,包括:双极晶体管行,包括:多个第一导电区域;第二导电区域;共用基极,位于所述第一导电区域和所述第二导电区域之间;绝缘沟槽,与所述双极晶体管行中的每个双极晶体管接触;导电层,位于所述绝缘沟槽上,并且位于所述共用基极上,位于所述第一导电区域之间;以及间隔件层,位于所述导电层和所述第一导电区域之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于意法半导体(克洛尔2)公司;意法半导体(鲁塞)公司,未经意法半导体(克洛尔2)公司;意法半导体(鲁塞)公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910272414.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top