[发明专利]非极性自支撑GaN基pin紫外光电探测器及制备方法有效

专利信息
申请号: 201910281833.2 申请日: 2019-04-09
公开(公告)号: CN110137277B 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 尹以安;李锴;曾妮 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/024;H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/105;H01L31/18
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 江裕强
地址: 510631 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种非极性自支撑GaN基pin紫外光电探测器及其制备方法,所述探测器包括非极性自支撑GaN衬底、n型GaN层、n型Alx1Ga1‑x1N渐变层、本征Alx2Ga1‑x2N层、p型Aly1Ga1‑y1N/Aly2Ga1‑y2N超晶格层、p型GaN盖层,并自下而上依次排布;非极性自支撑GaN衬底的背面连接n型欧姆电极;p型GaN盖层的上表面连接p型欧姆电极。该探测器解决了极化电场较大、外延层与衬底之间晶格失配、p型掺杂困难、内部电场不均匀的问题,且简化了紫外光电探测器芯片制备工艺。
搜索关键词: 极性 支撑 gan pin 紫外 光电 探测器 制备 方法
【主权项】:
1.非极性自支撑GaN基pin紫外光电探测器,其特征在于包括非极性自支撑GaN衬底(101)、n型GaN层(102)、n型Alx1Ga1‑x1N渐变层(103)、本征Alx2Ga1‑x2N层(104)、p型Aly1Ga1‑y1N/Aly2Ga1‑y2N超晶格层(105)、p型GaN盖层(106)、n型欧姆电极(107)和p型欧姆电极(108);所述n型GaN层(102)、n型Alx1Ga1‑x1N渐变层(103)、本征Alx2Ga1‑x2N层(104)、p型Aly1Ga1‑y1N/Aly2Ga1‑y2N超晶格层(105)和p型GaN盖层(106)在非极性自支撑GaN衬底(101)的正面按照自下而上的顺序依次排布;非极性自支撑GaN衬底(101)的背面连接n型欧姆电极(107);p型GaN盖层(106)的上表面连接p型欧姆电极(108)。
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