[发明专利]非极性自支撑GaN基pin紫外光电探测器及制备方法有效
申请号: | 201910281833.2 | 申请日: | 2019-04-09 |
公开(公告)号: | CN110137277B | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 尹以安;李锴;曾妮 | 申请(专利权)人: | 华南师范大学 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/024;H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/105;H01L31/18 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 江裕强 |
地址: | 510631 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: |
本发明公开了一种非极性自支撑GaN基pin紫外光电探测器及其制备方法,所述探测器包括非极性自支撑GaN衬底、n型GaN层、n型Al |
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搜索关键词: | 极性 支撑 gan pin 紫外 光电 探测器 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.非极性自支撑GaN基pin紫外光电探测器,其特征在于包括非极性自支撑GaN衬底(101)、n型GaN层(102)、n型Alx1Ga1‑x1N渐变层(103)、本征Alx2Ga1‑x2N层(104)、p型Aly1Ga1‑y1N/Aly2Ga1‑y2N超晶格层(105)、p型GaN盖层(106)、n型欧姆电极(107)和p型欧姆电极(108);所述n型GaN层(102)、n型Alx1Ga1‑x1N渐变层(103)、本征Alx2Ga1‑x2N层(104)、p型Aly1Ga1‑y1N/Aly2Ga1‑y2N超晶格层(105)和p型GaN盖层(106)在非极性自支撑GaN衬底(101)的正面按照自下而上的顺序依次排布;非极性自支撑GaN衬底(101)的背面连接n型欧姆电极(107);p型GaN盖层(106)的上表面连接p型欧姆电极(108)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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