[发明专利]利用光响应行为制备异质结构材料的方法及其应用有效
| 申请号： | 201910288571.2 | 申请日： | 2019-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN109989112B | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 李治洲;廖良生;王雪东 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | C30B33/04 | 分类号： | C30B33/04;G02B6/138 |
| 代理公司： | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人： | 冯瑞 |
| 地址： | 215000 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用光响应行为制备异质结构材料的方法，包括：将材料部分地曝光于光辐射下，使得被辐射的部分与辐射光发生光响应行为，从而未被辐射的部分与被辐射的部分产生性质差异，形成异质结构材料。本发明还公开了所述的方法在制备有机单晶异质结构的光波导器件中的应用。本发明的利用光响应行为制备异质结构材料的方法，可以在不加入其他材料的情况下，直接对材料进行改性，从而制备异质结构晶体。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 响应 行为 制备 结构 材料 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种利用光响应行为制备异质结构材料的方法，其特征在于，包括：将材料部分地曝光于光辐射下，使得被辐射的部分与辐射光发生光响应行为，从而未被辐射的部分与被辐射的部分产生性质差异，形成异质结构材料。
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