[发明专利]一种掩膜板及OLED面板的制备方法有效
申请号: | 201910290791.9 | 申请日: | 2019-04-11 |
公开(公告)号: | CN110095934B | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
发明(设计)人: | 李文杰 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩膜板及OLED面板的制备方法,掩膜板用以去除像素单元的多余光阻,像素单元具有一主体区域和连接于主体区域的拐角区域;所述掩膜板包括漏光区和遮光区,去除像素单元的多余光阻时,主体区域被所述遮光区完全挡述,拐角区域裸露于漏光区中。本发明的有益效果在于提供一种掩膜板及OLED面板的制备方法在掩膜板上设置与像素单元主体区域宽度相等的遮光区,和与所述遮光区间隔设置的漏光区,所述遮光区对应所述主体区域,像素单元的其余部分如拐角区域全部裸露于漏光区中,在紫外光照射下,所述拐角区域的光阻被紫外光照射分解,提高所述拐角区域墨水的铺展性,提高OLED面板的性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 oled 面板 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板,其特征在于,所述掩膜板用以去除像素单元的多余光阻,所述像素单元具有一主体区域和连接于主体区域的拐角区域;所述掩膜板包括漏光区与所述漏光区间隔设置的遮光区,去除像素单元的多余光阻时,所述主体区域被所述遮光区完全遮挡,所述拐角区域裸露于所述漏光区中。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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