[发明专利]一种基于锥形纳米孔的整流比及极性的调控装置及方法在审
| 申请号： | 201910291384.X | 申请日： | 2019-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN109917171A | 公开（公告）日： | 2019-06-21 |
| 发明（设计）人： | 周腾;黄志维;彭堙寅;邓鲁豫;丁行行;史留勇 | 申请（专利权）人： | 海南大学 |
| 主分类号： | G01R19/00 | 分类号： | G01R19/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 570228 海南省*** | 国省代码： | 海南;46 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于锥形纳米孔的电流整流比及极性的调控装置及方法，该装置主要由硅基衬底的两个微腔和连接微腔的锥形纳米孔及电流检测回路构成。调控时，通过调节微腔入口背景盐浓度及酸碱浓度来调节锥形纳米孔的整流比及极性。同时利用电流检测回路测量电流，进而通过电流数据分析出锥形纳米孔整流比及极性的调控效果。本发明的优势在于:在微电子系统中电路板的运用,本装置具有结构尺寸小可调节范围广。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米孔 微腔 电流检测回路 调控装置 电路板 微电子系统 测量电流 电流数据 电流整流 硅基衬 调控 酸碱 分析 | ||
【主权项】：
1.一种基于锥形纳米孔的整流比及极性的调控装置及方法，其特征在于，该调控装置是以微圆柱型腔与固态锥形纳米孔以及微圆柱型腔连接结构为核心的调控装置，具体包括在硅基衬底（2）上下两侧刻蚀的微圆柱型腔（3）、（6），在微圆柱型腔（3）、（6）中充满了电解质（7），采用离子束轰击的方式将两个微圆柱型腔（3）、（6）打通制作一个锥形纳米孔（4），绝缘层（1）涂覆在上下两侧微圆柱型腔（3）、（6）的硅基衬底（2）外表面上。
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