[发明专利]X射线分析设备和方法

摘要

本申请涉及X射线分析设备和方法。一种X射线分析设备包括被配置成用入射X射线波束照射样品的X射线源。第一波束掩模部件被布置在X射线源和样品之间。第一波束掩模部件具有用于限制入射X射线波束的尺寸的第一开口。当第一波束掩模部件在第一配置中时，第一开口被布置在入射X射线波束中。第一波束掩模部件还包括第二开口。当第一波束掩模部件在第二配置中时，第二开口被布置在入射X射线波束中。第二开口不限制入射X射线波束的尺寸。控制器被配置成控制第一波束掩模部件致动器以通过在与入射X射线波束相交的平面中移动第一波束掩模部件来将第一波束掩模部件的配置在第一配置和第二配置之间进行改变。

主权项

1.一种X射线分析设备(2)，包括：X射线源(4)，其用于生成X射线；样品台(8)，其被配置为支撑样品(6)，所述X射线源和所述样品台被布置成使得由所述X射线源生成的X射线限定照射所述样品的入射X射线波束(12)，其中，所述入射X射线波束从所述X射线源沿着入射X射线波束路径被引导到所述样品；第一波束掩模部件(22)，其在所述入射X射线波束路径中被布置在所述X射线源(4)和所述样品(6)之间，其中，所述第一波束掩模部件(22)包括主体(220)、用于限制所述入射X射线波束的尺寸和/或发散度的第一开口(222)和第二开口(224)；其中，所述第一波束掩模部件(22)具有第一配置和第二配置，其中，在所述第一配置中：所述第一开口(222)被布置在所述入射X射线波束路径中，以便限制所述入射X射线波束的尺寸和/或发散度，并且所述第二开口(224)被布置在所述入射X射线波束路径的外部，以及在所述第二配置中：所述第二开口(224)被布置在所述入射X射线波束路径中，以及所述主体(220)和所述第一开口(222)被布置在所述入射X射线波束路径的外部；以及所述X射线分析设备还包括控制器(17)，所述控制器被配置为控制第一波束掩模部件致动器(225)以通过在与所述入射X射线波束相交的平面中移动所述第一波束掩模部件(22)来在所述第一配置和所述第二配置之间改变所述第一波束掩模部件(22)的配置。