[发明专利]用于计算针对晶间事件的响应线的PET成像系统和方法在审
申请号: | 201910296864.5 | 申请日: | 2019-04-12 |
公开(公告)号: | CN110368011A | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 金昌龙 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 侯颖媖;钱慰民 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种用于计算响应线(LOR)的正电子发射断层扫描(PET)成像系统和方法,包括访问PET检测器的泛洪图以及识别对应于第一晶体的泛洪图中的第一区域。所述系统和方法包括识别对应于第二晶体的泛洪图中的第二区域。所述系统和方法包括生成查找表(LUT),其中所述LUT将所述第一区域内的位置与所述第一晶体相关联并将所述第二区域内的位置与所述第二晶体相关联。所述系统和方法包括检测具有在所述第二区域中的经能量加权的位置的事件。所述系统和方法包括:基于所述经能量加权的位置将所述事件识别为晶间事件;为所述事件分配所述第一晶体中的相互作用点;以及使用所述第一晶体中的所述相互作用点来计算针对所述事件的所述LOR。 | ||
搜索关键词: | 第二区域 泛洪 第一区域 晶体的 晶体相 作用点 加权 正电子发射断层扫描 关联 成像系统 事件分配 事件识别 查找表 响应 检测 访问 | ||
【主权项】:
1.一种用于正电子发射断层扫描(PET)的方法,所述方法包括:访问正电子发射断层扫描(PET)检测器的泛洪图,其中所述PET检测器包括多个晶体,所述多个晶体包括第一晶体和第二晶体,并且其中所述泛洪图包括第一峰值和第二峰值;在所述泛洪图中识别第一区域,其中所述第一区域包括所述第一峰值并且对应于所述第一晶体;在所述泛洪图中识别第二区域,其中所述第二区域包括所述第二峰值并且对应于所述第二晶体,并且其中所述第二区域不与所述第一区域重叠;基于所述泛洪图生成查找表(LUT),其中所述LUT将所述第一区域内的位置与所述第一晶体相关联,并且其中所述LUT将所述第二区域内的位置与所述第二晶体相关联;用所述PET检测器来检测由伽马射线与所述PET检测器相互作用引起的事件;计算所述事件的经能量加权的位置,其中所述经能量加权的位置相对于所述泛洪图位于所述第二区域中;基于相对于所述泛洪图的所述经能量加权的位置,将所述事件识别为晶间事件;在将所述事件识别为所述晶间事件之后,向所述事件分配所述第一晶体中的相互作用点;以及使用所述第一晶体中的所述相互作用点来计算针对所述事件的响应线(LOR)。
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