[发明专利]一种机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺在审

专利信息
申请号: 201910298689.3 申请日: 2019-04-15
公开(公告)号: CN109927158A 公开(公告)日: 2019-06-25
发明(设计)人: 曾文昌;连天星;曾庆波;曾劲龙 申请(专利权)人: 福建省德化县全丰陶瓷有限公司
主分类号: B28B11/04 分类号: B28B11/04;B44C5/04;C04B41/89;C03C8/00
代理公司: 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 代理人: 刘玉欣
地址: 362500 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及陶瓷制造技术领域,具体的涉及一种机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺。该种机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺,包括陶瓷坯体,还包括底釉层、刻花层和面釉层,所述刻花层与底釉层设置于陶瓷坯体外的同一个平面上、且刻花层由在底釉层上的缺釉部分构成,所述面釉层覆盖于底釉层与刻花层上。本发明提供的机制定窑刻花效果的艺术陶瓷,使用底釉层、刻花层和面釉层的三层结构,该种机制定窑刻花效果的艺术陶瓷实现两次施釉、一次烧制成型。提供了一种全新的定窑刻花效果的制备方法,大幅提高了生成效率,可满足不同造型陶瓷的制作,对推动定窑陶瓷产品的发展具有积极的意义而且具有积极的经济效益。
搜索关键词: 刻花 艺术陶瓷 底釉层 刻花层 制备工艺 陶瓷坯体 釉层 和面 三层结构 陶瓷产品 陶瓷制造 一次烧制 面釉层 施釉 制备 成型 陶瓷 造型 覆盖 制作
【主权项】:
1.一种机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺,包括陶瓷坯体,其特征在于:还包括底釉层、刻花层和面釉层,所述刻花层与底釉层设置于陶瓷坯体外的同一个平面上、且刻花层由在底釉层上的缺釉部分构成,所述面釉层覆盖于底釉层与刻花层上。
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