[发明专利]带电路基板加工体及带电路基板的加工方法在审
申请号: | 201910299633.X | 申请日: | 2019-04-15 |
公开(公告)号: | CN110391167A | 公开(公告)日: | 2019-10-29 |
发明(设计)人: | 田上昭平;菅生道博 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;C09J183/07;C09J183/05 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 张晶;谢顺星 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明为以可剥离的方式在支撑体上层叠暂时粘合材料层且该暂时粘合材料层以可剥离的方式层叠于表面具有电路面且需对背面进行加工的带电路基板的表面的、带电路基板加工体,其特征在于,暂时粘合材料层由热固化性硅氧烷聚合物层(A)形成,聚合物层(A)在固化后使其从支撑体上表面剥离时的剥离力在180°剥离试验中为10~500mN/25mm,且在固化后使其从带电路基板上表面剥离时的剥离力在180°剥离试验中为50~1000mN/25mm。由此提供能够构建简易且低成本的加工,对形成TSV、基板背面布线工序的工序适应性高,热加工耐性优异,能够提高薄型基板的生产率的带电路基板加工体及带电路基板的加工方法。 | ||
搜索关键词: | 带电路基板 加工 粘合材料层 剥离试验 剥离力 可剥离 上表面 支撑体 固化 剥离 硅氧烷聚合物层 热加工 工序适应性 薄型基板 布线工序 基板背面 聚合物层 热固化性 低成本 电路面 构建 背面 简易 上层 | ||
【主权项】:
1.一种带电路基板加工体,其中,以可剥离的方式在支撑体上层叠暂时粘合材料层,并且该暂时粘合材料层以可剥离的方式层叠在表面具有电路面且需要对背面进行加工的带电路基板的表面上,该带电路基板加工体以所述支撑体、所述暂时粘合材料层、所述带电路基板的顺序形成,该带电路基板加工体的特征在于,所述暂时粘合材料层由热固化性硅氧烷聚合物层(A)形成,层叠在所述支撑体上的所述聚合物层(A)在固化后使其从所述支撑体上表面剥离时的剥离力,在25mm宽试验片的5mm/秒下的180°剥离试验中为10~500mN/25mm,且层叠在所述带电路基板上的所述聚合物层(A)在固化后使其从所述带电路基板上表面剥离时的剥离力,在25mm宽试验片的5mm/秒下的180°剥离试验中为50~1000mN/25mm。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造