[发明专利]适用于储纬器上绕纱架的陶瓷涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910304554.3 申请日: 2019-04-16
公开(公告)号: CN109881142B 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 陈峰;沈健健;张方权;张申 申请(专利权)人: 德清创智科技股份有限公司
主分类号: C23C4/134 分类号: C23C4/134;C23C4/08;C23C4/11;C23C4/02;C23C4/18;C22C19/03
代理公司: 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 裴金华
地址: 313000 浙江省湖州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种适用于储纬器上绕纱架的陶瓷涂层及其制备方法,属于热喷涂技术领域。陶瓷涂层,由表及里分别包括耐磨层、过渡层和粗化层;其显微硬度性能为:≥Hv300:1000;抗拉强度性能为:σ≥25MPa;表面粗糙度Ra在0.4~0.8μm范围内;中性盐雾试验中,开始出现腐蚀的时间≥200小时。制备方法包括如下步骤:①基体预处理;②表面粗化;③等离子喷涂;④孔隙封闭;⑤磨削抛光。该陶瓷涂层硬度高、摩擦系数低,耐腐蚀性好,能够适应纱线越来越细和放纬速度越来越快的生产现状。
搜索关键词: 适用于 储纬器上绕纱架 陶瓷 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
1.适用于储纬器上绕纱架的陶瓷涂层,其特征在于:由表及里分别包括耐磨层、过渡层和粗化层;所述陶瓷涂层的显微硬度性能为:≥1000Hv0.3/15;抗拉强度性能为:σ≥25MPa;表面粗糙度Ra在0.4~0.8μm范围内;中性盐雾试验中,开始出现腐蚀的时间≥200小时。
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