[发明专利]一种受激辐射损耗超分辨成像系统及方法有效
| 申请号： | 201910309100.5 | 申请日： | 2019-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN110068560B | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 严伟;王佳林;张佳;王璐玮;郭勇;屈军乐 | 申请（专利权）人： | 深圳大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 | 代理人： | 袁文英 |
| 地址： | 518060 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种受激辐射损耗超分辨成像系统及方法，通过分光单元将激光器产生的入射光分离为波长不同的激发光和擦除光；然后由第一光路调整单元调整激发光和擦除光的方向，将激发光与擦除光进行重叠；再由扫描单元将重叠后的激发光和擦除光同步扫描至待成像样品；最后成像单元对待成像样品受激发所产生的荧光信号进行STED超分辨成像。通过本发明的实施，由分光单元通过分光的方式从单一光源中分离出STED超分辨成像所需的两种类型的激光，可以有效降低系统硬件冗杂度，扩展了系统的应用范围，并节省了成像成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 损耗 分辨 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种受激辐射损耗超分辨成像系统，其特征在于，包括：激光器、分光单元、第一光路调整单元、扫描单元以及成像单元；所述激光器用于产生入射光；所述分光单元用于将所述入射光分离为波长不同的激发光和擦除光；所述第一光路调整单元用于调整所述激发光和擦除光的方向，将所述激发光与擦除光进行重叠；所述扫描单元用于将重叠后的所述激发光和擦除光同步扫描至待成像样品；所述成像单元用于对所述待成像样品受激发所产生的荧光信号进行STED超分辨成像。
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