[发明专利]一种电极结构复用的阻变存储器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910309479.X 申请日: 2019-04-17
公开(公告)号: CN109994605A 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 魏凌;尹延锋;孙献文 申请(专利权)人: 河南大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 郑州优盾知识产权代理有限公司 41125 代理人: 郑园
地址: 475004 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明提供一种阻变存储器及其制备方法,该阻变存储器从上到下依次是多个上电极,热导率低的绝缘介质层,阻变层,多个下电极层;其中下电极层与阻变层为欧姆接触,绝缘介质薄膜的热击穿电压ET1小于阻变层薄膜的热击穿电压ET2,阻变层需要施加触发电压ETC将阻变层材料的电阻开关功能触发,使阻变层位于高阻态或低阻值态,其中ETC<ET2,未触发和疲劳时的阻变层为绝缘介质层,本发明得到很小的实际电极,降低了成本,优化了器件,在操作电流/电压大大减小的同时还使阻变存储器的性能参数更加集中,减小波动。该存储器结构解决了目前的当存储器电极下的阻变材料局部失效时,不能够再次利用该电极的问题。
搜索关键词: 阻变层 阻变存储器 绝缘介质层 下电极层 热击穿 电极 减小 制备 绝缘介质薄膜 存储器电极 存储器结构 操作电流 触发电压 从上到下 电极结构 电阻开关 功能触发 欧姆接触 实际电极 性能参数 再次利用 阻变材料 高阻态 热导率 触发 复用 薄膜 疲劳 施加 优化
【主权项】:
1.一种阻变存储器,其特征在于,从上到下依次是多个上电极,热导率低的绝缘介质层,阻变层,多个下电极层;其中下电极层与阻变层为欧姆接触,绝缘介质薄膜的热击穿电压ET1小于阻变层薄膜的热击穿电压ET2,阻变层需要施加触发电压ETC将阻变层材料的电阻开关功能触发,使阻变层位于高阻态或低阻值态,其中ETC<ET2,未触发和疲劳时的阻变层的电阻值很高,相当于绝缘介质层。
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