[发明专利]一种透明防变色陶瓷膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910309641.8 申请日: 2019-04-17
公开(公告)号: CN109881168B 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 范伟华 申请(专利权)人: 深圳市森泰金属技术有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/02;C23C14/06
代理公司: 深圳市中科创为专利代理有限公司 44384 代理人: 梁炎芳;谭雪婷
地址: 518000 广东省深圳市龙*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种透明防变色陶瓷膜的制备方法,属于纳米膜层领域。将基材进行表面清洗处理,将清洗完的的基材放入至镀膜设备的样品架上,用抽气泵进行抽取真空处理;采用靶材在上,基材在下的位置方式,对基材进行离子溅射镀膜处理,其中,基材与靶材间的距离为150mm,在镀膜时,样品架以150mm/s的速度自转转动,从而使基材表面沉积纳米透明薄膜层。本发明通过选用铌作为靶材,使用离子溅射技术对基材表面进行镀膜,从而使基材表面均匀沉积纳米级陶瓷膜,纳米陶瓷膜抗氧化性、透光性强,可长期使基材保持原有的颜色及光泽度;同时,纳米陶瓷膜具有更可靠的耐磨性能,防止基材表面因意外摩擦导致外观颜色磨损变化。
搜索关键词: 一种 透明 变色 陶瓷膜 制备 方法
【主权项】:
1.一种透明防变色陶瓷膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)将基材进行表面清洗处理;所述表面清洗处理的工艺流程为:用水对基材表面进行清洗,然后用50‑80℃的温度对基材进行水分烘烤处理;2)将步骤1)所得的基材放入至镀膜设备的样品架上,对镀膜设备进行抽取真空处理,使之真空度达到6×10‑3Pa;3)采用靶材在上,基材在下的位置方式,对步骤2)所得的基材进行离子溅射镀膜处理,使基材表面沉积纳米透明薄膜层;其中,所述靶材为绝缘材料;所述基材与靶材间的距离为150mm;所述离子溅射镀膜处理工艺条件为:样品架以150mm/s的速度自转转动,采用纯度为99.999%的氩气作为工作气体,氩气的流量为200sccm,离子源电流为60‑80A,靶材功率为30‑35KW,电偏压为100‑150V,工作气压为0.3‑0.35Pa,占空比为50%‑60%。
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