[发明专利]一种黄铜螺母表面防护的物理气相沉积方法在审
| 申请号： | 201910313882.X | 申请日： | 2019-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN109930126A | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 夏原 | 申请（专利权）人： | 包头中科泰磁涂层科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/06;C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人： | 胡剑辉 |
| 地址： | 014000 内蒙古自治*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种黄铜螺母表面防护的物理气相沉积方法，包括以下步骤：工件预处理，将倒角研磨完成的黄铜螺母进行清洗干燥；离子蚀刻清洗，将烘干后的黄铜螺母置于真空室内加热，并且利用离子源离化氩气离子进行离子蚀刻清洗；机械旋转二次蚀刻，将上段蚀刻完成的黄铜螺母转移翻至第二载片台进行二次蚀刻；沉积镀膜，向真空室继续通入氩气增压，并且利用离子源和溅射电源离化成膜；机械旋转二次镀膜，将单段镀膜完成的黄铜螺母转移翻至第一载片台进行二次镀膜；本方案通过离子清洗提高螺母表面活性，保证在镀膜时涂层在螺母整体上均匀分布，避免出现镀膜盲区，提高防腐蚀效果，增加螺母的导电性能，提高使用寿命和导电使用体验。 | ||
| 搜索关键词： | 黄铜螺母 镀膜 蚀刻 螺母 物理气相沉积 表面防护 二次镀膜 机械旋转 离子蚀刻 离子源 载片台 离化 清洗 工件预处理 倒角研磨 导电性能 溅射电源 离子清洗 螺母表面 清洗干燥 使用寿命 室内加热 氩气离子 氩气增压 防腐蚀 真空室 成膜 单段 导电 烘干 沉积 盲区 保证 | ||
【主权项】：
1.一种黄铜螺母表面防护的物理气相沉积方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤100、工件预处理，将倒角研磨完成的黄铜螺母进行清洗干燥；步骤200、离子蚀刻清洗，将烘干后的黄铜螺母置于真空室内的第一载片台上加热，并且利用离子源离化氩气离子进行离子蚀刻清洗；步骤300、机械旋转二次蚀刻，将上段蚀刻完成的黄铜螺母转移翻至第二载片台进行二次蚀刻；步骤400、沉积镀膜，向真空室继续通入氩气增压，并且利用离子源和溅射电源离化成膜；步骤500、机械旋转二次镀膜，将单段镀膜完成的黄铜螺母转移翻至第一载片台进行二次镀膜。
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