[发明专利]气体输送系统、半导体设备和气体输送方法

摘要

本发明提供一种气体输送系统和半导体设备，可以利用第一回收管路和回收装置，使通入进气管路中的、流量不稳定的工艺气体进入回收装置，以使回收装置溶解或吸附工艺气体中的前驱物。本发明还提供一种气体输送方法，先使工艺气体经第一回收管路进入回收装置，以使回收装置溶解或吸附前驱物；当工艺气体的流量达到预设值且保持在该预设值不变时，再使工艺气体经进气管路进入反应腔室,以向反应腔室内通入流量稳定的工艺气体并进行工艺。从而，采用溶解或吸附的回收方式，可以回收多种前驱物，上述气体输送系统、半导体设备和气体输送方法可以在保证进行工艺时工艺气体流量稳定的前提下，将在工艺前浪费的前驱物进行回收，以避免前驱物的浪费，提高前驱物的利用率。