[发明专利]一种具有高饱和度结构色的多孔氧化铝光子晶体薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201910315473.3 | 申请日： | 2019-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN109989086B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 徐芹;彭琪;郝圣圳;孙春心;兰天;王拥国 | 申请（专利权）人： | 河北工业大学 |
| 主分类号： | C25D11/12 | 分类号： | C25D11/12;C25D11/10 |
| 代理公司： | 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 | 代理人： | 赵凤英 |
| 地址： | 300130 天津市红桥区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明为一种具有高饱和度结构色的多孔氧化铝光子晶体薄膜的制备方法。该方法包括以下步骤：高纯铝片经过退火、抛光、洗涤后作为阳极，以石墨为阴极，浸入到草酸溶液中，采用恒电位正弦脉冲进行第一次阳极氧化制备光子晶体。洗涤后放入草酸溶液中，使用直流稳压电源提供的大电压进行第二次阳极氧化，得到具有高饱和度结构色的阳极氧化铝光子晶体模板。本发明无需去除铝基底，也无需在氧化铝薄膜中沉积其它材料就能观察到饱和度较高的结构色，进一步拓展了光子晶体结构色在彩显、防伪、装饰等领域的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 饱和度 结构 多孔 氧化铝 光子 晶体 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种具有高饱和度结构色的多孔氧化铝光子晶体薄膜的制备方法，其特征为该方法包括以下步骤：(1)高纯铝片置于管式电炉中400～450℃下退火2～3h(采用氩气做保护气体)；(2)将退火后的铝片放入丙酮溶液中超声波清洗，再使用高氯酸与无水乙醇体积比为1:4的抛光液进行抛光：以铝片为阳极，碳板为阴极，直流1～1.05A电流下电解抛光2～3分钟后，用去离子水清洗表面抛光液，然后在超声波震荡器里分别用丙酮和无水乙醇清洗，晾干；(3)以石墨为阴极，上步得到的处理后的铝片为阳极，浸入到浓度为0.25～0.35mol/L的草酸溶液中，采用恒电位正弦脉冲进行第一次阳极氧化制备光子晶体；正弦脉冲的最大值与最小值分别为45V和5V，脉冲周期为200～300S，氧化时间为10～12h，反应温度为20℃；(4)将步骤(3)中被氧化后铝片用去离子水冲洗并晾干；随后放入0.25～0.35mol/L的草酸溶液中，使用直流稳压电源以石墨为阴极，铝片为阳极进行第二次阳极氧化；第二次阳极氧化包括增压氧化阶段和恒压氧化阶段；在增压氧化阶段，将氧化电压在10～13S内从25V均匀增加到150～250V，然后保持恒定电压80～140S，得到具有高饱和度结构色的阳极氧化铝光子晶体薄膜。
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