[发明专利]一种基于延时表修正的SAS运动补偿方法有效

专利信息
申请号: 201910316879.3 申请日: 2019-04-19
公开(公告)号: CN110082742B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 张福洪;江静;易志强;卓怡琳;班多兴;陆宇斌;贺杰 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G01S7/539 分类号: G01S7/539
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 朱月芬
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于延时表修正的SAS运动补偿方法,本发明根据运动补偿时无需重新计算延时表,直接将运动误差带来的像素点到实际声纳基阵的斜距误差转换为延时误差,与通过理想延时表中该像素点到理想声纳基阵的回波延时相加,就可以得到实际回波延时,实现运动补偿。该方法可以避免按实际航迹补偿时要反复重新构造延时表带来的庞大的运算量,提高了处理效率。
搜索关键词: 一种 基于 延时 修正 sas 运动 补偿 方法
【主权项】:
1.一种基于延时表修正的SAS运动补偿方法,其特征在于,该方法具体包括以下步骤:步骤一、SAS发射线性调频信号pR(t)如式(1)所示:式(1)中,“Re()”表示取实部,“exp()”是以自然常数e=2.71828为底的指数函数,f0是载波频率,K为调频率,t是距离向上时间,Tr是脉冲宽度;正侧视下,计算出理想发射阵位置到成像区域内某像素点(i,j)的斜距Ri,j,如式(2)所示:式(2)中,i=1,2...LA,LA为成像区域中方位向像素点的个数;j=1,2...Nt,Nt为成像区域中距离向像素点的个数;xi为像素点(i,j)到发射阵位置的方位向距离,如式(3)所示:xi=i*d‑LAm*d  式(3)yj为像素点(i,j)到发射阵位置的距离向距离,如式(4)所示:yj=(Ts+j/fs)*c/2  式(4)式(3)中,d为基阵物理尺寸的一半,LAm=round(LA/2),round表示四舍五入;式(4)中,Ts为发射波束到达成像区域中最近端像素点的时间,fs为信号的采样频率,c为声速;步骤二、根据计算出的理想斜距Ri,j,求得像素点(i,j)到发射阵的理想回波延时Δτi.j如式(5)所示:步骤三、在一个合成孔径长度内,计算不同斜距的各个像素点的延时,按式(6)构建延时表delay(i,j)=round((Δτi,j‑Ts)*fs)  式(6)延时表是一个二维的查找表,delay(i,j)值记录了像素点(i,j)在查找表中的位置信息,里面存放着该像素点的延时;步骤四、根据得到的回波延时,对发射信号pR(t)进行延时叠加,因此得到其接收到的回波信号pT(t)如式(7)所示:pT(t)=Re{exp(j(2πf0(t‑Δτi,j)+πK(t‑Δτi,j)2))}  式(7)步骤五、设载体仅存在平动误差,其横荡误差的大小为Δxi,升沉误差大小为Δyj,目标方位角为θ,则计算出理想斜距Ri,j与实际斜距R'i,j的关系,如式(8)所示:步骤六、式(8)中,由于|Δxi cosθ‑Δyj sinθ<<|Ri,j+Δxi sinθ+Δyj cosθ|,简化处理,Ri,j与R'i,j关系可近似如式(9)所示:R'i,j≈Ri,j+Δxi sinθ+Δyj cosθ  式(9)所以因未按既定轨迹航行带来的斜距误差Δri,j如式(10)所示:Δri,j=R'i,j‑Ri,j≈Δxi sinθ+Δyj cosθ  式(10)步骤七、计算出斜距误差Δri,j对应的延时误差Δτ'i,j如式(11)所示:所以实际回波延时τi,j如式(12)所示:τi,j=Δτi,j+Δτ'i,j  式(12)Δτi,j可以从式(6)构造的延时表中得到;步骤八、经误差补偿后,得到接收到的回波信号p'T(t)如式(13)所示,从而完成对回波信号的运动补偿:p'T(t)=Re{exp(j(2πf0(t‑τi,j)+πK(t‑τi,j)2))}  式(13)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910316879.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top