[发明专利]一种雪崩光电二极管扩散结构、制备方法及二极管器件有效

专利信息
申请号: 201910316989.X 申请日: 2019-04-18
公开(公告)号: CN110098278B 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 王亮;张博健;秦金 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周天宇
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供了一种雪崩光电二极管扩散结构、制备方法及二极管器件。所述扩散结构包括:中心圆形有源区(1)、直径大于所述有源区(1)直径,并且直径依次增大的第一保护环区(2)和第二保护环区(3)、与所述第二保护环区(3)间隔预设距离的扩散沟槽区(4)。实现了在不影响器件诸如暗电流、带宽增益积等其他关键参数性能的前提下,抑制边缘击穿,并简化传统保护环工艺的繁杂的扩散工艺。
搜索关键词: 一种 雪崩 光电二极管 扩散 结构 制备 方法 二极管 器件
【主权项】:
1.一种雪崩光电二极管扩散结构,其特征在于,所述扩散结构包括:中心圆形有源区(1)、直径大于所述有源区(1)直径,并且直径依次增大的第一保护环区(2)和第二保护环区(3)、与所述第二保护环区(3)间隔预设距离的扩散沟槽区(4)。
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