[发明专利]金属掩模用基材及其制造方法、蒸镀用金属掩模及其制造方法在审
| 申请号： | 201910317040.1 | 申请日： | 2016-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN110117767A | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 三上菜穗子;田村纯香;寺田玲尔;仓田真嗣;藤户大生;西辻清明;西刚广 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;H01L51/56 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 牛玉婷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在具备表面以及与表面相反侧的面即背面的金属轧制片中，表面及背面的至少一方为处理对象。金属掩模用基材的制造方法为，通过用酸性蚀刻液将处理对象蚀刻3μm以上来使金属轧制片所具有的厚度变薄到10μm以下，并且，将处理对象粗糙化为具有0.2μm以上的表面粗糙度Rz的抗蚀剂用处理面，得到金属制的金属掩模用片。 | ||
| 搜索关键词： | 金属掩模 处理对象 金属轧制 基材 制造 蚀刻 表面粗糙度 酸性蚀刻液 厚度变薄 处理面 金属制 抗蚀剂 相反侧 蒸镀 粗糙 | ||
【主权项】：
1.一种金属掩模用基材的制造方法，其中，包括如下步骤：准备金属轧制片，该金属轧制片具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面，上述表面以及上述背面的至少一方为处理对象；以及通过用酸性蚀刻液将上述处理对象蚀刻3μm以上，来使上述金属轧制片所具有的厚度变薄到10μm以下，并且，将上述处理对象粗糙化为具有0.2μm以上的表面粗糙度Rz的抗蚀剂用处理面，由此，得到金属制的金属掩模用片。
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