[发明专利]重要特征的筛选方法、装置及电子设备有效
申请号: | 201910317059.6 | 申请日: | 2019-04-19 |
公开(公告)号: | CN110059749B | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 覃进学;何智福;蓝科;刘旻哲 | 申请(专利权)人: | 成都四方伟业软件股份有限公司 |
主分类号: | G06K9/62 | 分类号: | G06K9/62 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 徐丽 |
地址: | 610000 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供了的一种重要特征的筛选方法、装置及电子设备,涉及信息技术领域。该方法包括:判断目标特征是否满足预设的保留条件;如果目标特征满足保留条件,从多个特征中选取第二特征,基于目标特征和第二特征判断目标特征是否再次满足保留条件,以及基于目标特征和第二特征判断第二特征是否满足保留条件;将满足保留条件的目标特征和/或第二特征作为保留特征;将保留特征作为新的目标特征,从多个特征中选取除第一特征和第二特征之外的新的第二特征,重复执行上述判断步骤,直至用户输入的多个特征均参与判断步骤;将得到的各保留特征确定为多个特征中的重要特征。本发明能够有效提升重要特征的筛选可靠性。 | ||
搜索关键词: | 重要 特征 筛选 方法 装置 电子设备 | ||
【主权项】:
1.一种重要特征的筛选方法,其特征在于,包括:接收用户输入的多个特征;从多个所述特征中选取第一特征,将所述第一特征作为目标特征;判断所述目标特征是否满足预设的保留条件;如果所述目标特征满足所述保留条件,从多个所述特征中选取第二特征,基于所述目标特征和所述第二特征判断所述目标特征是否再次满足所述保留条件,以及基于所述目标特征和所述第二特征判断所述第二特征是否满足所述保留条件;将满足所述保留条件的所述目标特征和/或所述第二特征作为保留特征;将所述保留特征作为新的目标特征,从多个所述特征中选取除所述第一特征和所述第二特征之外的一个其它特征;将选取的所述其它特征作为新的第二特征,重复执行上述判断步骤,直至所述用户输入的多个所述特征均参与所述判断步骤;将得到的所述保留特征确定为多个所述特征中的重要特征。
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