[发明专利]一种凸面镜状硅纳米片材料及其制备方法和应用有效
申请号: | 201910319832.2 | 申请日: | 2019-04-19 |
公开(公告)号: | CN110034296B | 公开(公告)日: | 2022-02-15 |
发明(设计)人: | 杜春雨;任阳;肖让;王雅静;尹旭才;周晓明;尹鸽平;左朋建;高云智;霍华;程新群;马玉林 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | H01M4/38 | 分类号: | H01M4/38;H01M10/0525;C01B33/18;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人: | 崔自京 |
地址: | 150000 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 本发明公开了一种凸面镜状硅纳米片材料及其制备方法和应用,其中凸面镜状硅纳米片材料中间厚边缘薄,类似凸面镜的形状,其厚度小于5nm,横向尺寸为50~150nm,制备方法为:一、插层分离,插层以增大蒙脱土中硅层和铝层层间间距,超声振荡破坏层间键合力,使硅层和铝层分离;二、镁热还原得到硅纳米片等固体混合物;三、酸洗除杂,得到凸面镜状硅纳米片。本发明具有原料易得,价格低廉,制备工艺简单的优点,并且得到的这种凸面镜状硅纳米片可以用作锂离子电池负极材料,表现了较为优异的电化学性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 凸面镜 纳米 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种凸面镜状硅纳米片材料,其特征在于,所述硅纳米片材料中间厚,边缘薄,呈凸面镜的形状。
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