[发明专利]一种高稳定高效抛光液及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201910320943.5 申请日: 2019-04-21
公开(公告)号: CN109971362B 公开(公告)日: 2020-12-15
发明(设计)人: 左海珍 申请(专利权)人: 上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02
代理公司: 北京华仁联合知识产权代理有限公司 11588 代理人: 国红
地址: 200000 上海市奉贤*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种高效硅溶胶抛光液及其制备方法,在硅溶胶抛光剂含有氧化硅分散体,并添加有非离子表面活性剂、Ti离子络合剂、Fe离子络合剂、氧化剂、缓蚀剂、有机碱、防腐杀菌剂:四甲基乙二胺、去离子水、所述硅溶胶中的氧化硅分散体由高岭石提纯获得,含有SiO2、氢氧化钠、乙醇、去离子水、聚乙二醇,其中氧化硅的含量为5~35wt.%,其中获得的氧化硅颗粒的尺寸集中在50‑60nm之间,且所述硅溶胶抛光液稳定、使用周期长。
搜索关键词: 一种 稳定 高效 抛光 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种高稳定高效抛光液,其特征在于所述抛光液包括:氧化硅分散体溶液:150‑300mL;非离子表面活性剂:聚环氧乙烷‑聚环氧丙烷‑聚环氧乙烷P123,1‑3g;Ti离子络合剂:1,2‑环己二胺四乙酸,0.5‑1g;Fe离子络合剂:EDTA,0.3‑0.7g;氧化剂:叔丁基过氧, 1‑2mL;缓蚀剂:苯并三氮唑,0.5‑1g;防腐杀菌剂:二氯苯基二甲脲,0.1‑1g;有机碱:四甲基乙二胺,调节抛光液pH=11.0‑11.5,去离子水:0.5‑1L;其中,所述氧化硅分散体由高岭石提纯获得,含有SiO2、氢氧化钠、乙醇、去离子水、聚乙二醇,其中氧化硅的含量为5~35wt.%,其中获得的氧化硅颗粒的尺寸集中在50‑60nm,D98≤75nm。
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