[发明专利]一种结构梯度变化的多孔超疏水膜制备方法有效

专利信息
申请号: 201910321288.5 申请日: 2019-04-22
公开(公告)号: CN110090557B 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: 姜晓滨;邵钰珊;贺高红;佟哲名;肖武;李祥村;吴雪梅 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: B01D61/36 分类号: B01D61/36;B01D67/00;B01D69/12;B01D71/02;B01D71/26;B01D71/30;B01D71/34;B01D71/36;B01D71/38;B01D71/48;B01D71/64
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 温福雪;侯明远
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于膜科学与技术领域,提供一种结构梯度变化的多孔超疏水膜制备方法,步骤如下法:利用等离子体技术改性基膜,增大膜孔隙率;分别采用涂覆法和原位溶胶凝胶法制备微米级和纳米级结构梯度变化的复合膜;利用低表面能物质的表面化学反应修饰得到超疏水膜。该方法利用等离子体处理增大基膜表面孔隙率,然后基膜上涂覆微米级颗粒,并在基膜表面和微米级颗粒上原位生成纳米级颗粒,通过调控基膜表面微米颗粒和纳米颗粒尺寸及负载量,制备的超疏水膜具有多孔性和结构梯度变化的特点。该超疏水膜制备方法不仅解决了直接涂覆法造成的膜孔堵塞问题,还提供了构造多级粗糙结构的新思路,且制备方法简单,成本低廉,在膜分离领域具有广阔的应用前景。
搜索关键词: 一种 结构 梯度 变化 多孔 疏水 制备 方法
【主权项】:
1.一种结构梯度变化的多孔超疏水膜制备方法,其特征在于,步骤如下:(1)利用等离子体技术改性基膜,增大膜孔隙率;(1.1)将基膜固定于等离子体表面处理仪的托载板上,调整托载板与等离子体发生器平行;(1.2)打开等离子体表面处理仪开关,选择自动模式,并设定工艺参数:射频功率为10‑150W,气体流量为0‑1000cc/min,基膜处理时间为1‑5min,真空度为60‑600Pa,通入含有氨气的气体,最后点击“Run”按钮,运行等离子体发生装置,即完成一次处理,然后密封保存;(2)分别采用涂覆法和原位溶胶凝胶法制备微米级和纳米级结构梯度变化的复合膜;(2.1)取微米二氧化硅颗粒超声分散乙醇溶液中,将等离子体改性后的基膜浸入上述溶液中进行涂覆,取出后干燥,形成具有微米结构的复合膜;(2.2)配制不同浓度的二氧化硅溶胶,将具有微米结构的复合膜浸入二氧化硅溶胶中,在复合膜表面和微米二氧化硅颗粒表面原位均匀生成纳米级二氧化硅颗粒,取出后干燥,形成具有微/纳梯度结构的复合膜;(3)利用低表面能物质的表面化学反应修饰得到超疏水膜。
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