[发明专利]一种带有外层的中空结构微针阵列制作方法在审

专利信息
申请号: 201910323058.2 申请日: 2019-04-22
公开(公告)号: CN109893754A 公开(公告)日: 2019-06-18
发明(设计)人: 王欢;李以贵;张成功;蔡金东 申请(专利权)人: 苏州应汝电子科技有限公司
主分类号: A61M37/00 分类号: A61M37/00;A61B10/02
代理公司: 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 代理人: 张丽
地址: 215000 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种带有外层的中空结构微针阵列制作方法,包括以下操作步骤:S1:制作原始硅模具;S2:将原始硅模具硅烷化,按10:1配置PDMS溶液,将硅片用双面胶黏贴与培养皿中,倒入配置好的PDMS溶液,抽气泡25‑35min;S3:将S2步骤中的原始硅模具在50℃‑70℃烘箱中热固化1‑3h,脱模,得到两块针形PDMS模具;S4:将尺寸大的针形PDMS模具二次转模,得到坑形较大尺寸PDMS模具;S5:填充较大尺寸坑形PDMS模具,得到微针阵列结构;S6:微针阵列结构抽除气泡后取出后脱模;S7:在微针阵列结构下方开出小孔。通过上述方式,本发明中有外层的中空微针阵列,外层和中空部分尺寸可调整,外层根据需求可制备为易降解、固体及带孔结构,满足多场景应用需要,中空孔可填充多种形式的有效成分以达满足不同应用场景的要求。
搜索关键词: 微针阵列 模具 原始硅 中空结构 中空 脱模 针形 填充 培养皿 制作 烘箱 场景应用 应用场景 除气泡 硅烷化 胶黏贴 可调整 热固化 中空孔 带孔 硅片 降解 小孔 转模 配置 制备 取出
【主权项】:
1.一种带有外层的中空结构微针阵列制作方法,其特征在于,包括以下操作步骤:S1:制作原始硅模具;S2:将原始硅模具硅烷化,按10:1配置PDMS溶液,将硅片用双面胶黏贴与培养皿中,倒入配置好的PDMS溶液,抽气泡25‑35min;S3:将S2步骤中的原始硅模具在50℃‑70℃烘箱中热固化1‑3h,脱模,得到两块针形PDMS模具;S4:将尺寸大的针形PDMS模具二次转模,得到坑形较大尺寸PDMS模具;S5:使用HA、PVA、PVP、PDMS中的一种或多种分别填充较大尺寸坑形PDMS模具,使用对准标记寻找对准点,并选用合适高度凸台控制背座层厚度与外层厚度,得到微针阵列结构;S6:将S5步骤中的微针阵列结构抽除气泡,并且在50℃‑70℃烘箱中保持至干燥,取出后脱模;S7:通过切割、激光打孔及研磨工艺,在微针阵列结构下方开出小孔。
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