[发明专利]一种中国樱桃高密度种植方法有效
| 申请号： | 201910328816.X | 申请日： | 2019-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN110115187B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 吴延军;赵新军;戚行江;周慧芬;盛莉;袁玥;杨肖芳 | 申请（专利权）人： | 浙江省农业科学院 |
| 主分类号： | A01G17/00 | 分类号： | A01G17/00;A01G7/06;A01G13/00;A01C21/00 |
| 代理公司： | 杭州恒翌专利代理事务所(特殊普通合伙) 33298 | 代理人： | 王从友 |
| 地址： | 310021 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及农业种植领域，尤其涉及一种中国樱桃高密度种植方法。一种中国樱桃高密度种植方法，该方法包括以下步骤：1）采用行株距2.0~2.2 m×0.4~0.6m高密度种植；平地挖排水沟，行间采用二种方式之一种植：其一、定植在排水沟2侧，2行之间共用操作道路和采摘路；其二、定植在远离排水沟的中间位置，树体2侧均留出操作道路及采摘路；2）定植后单主干为高干、低干或高干低干组合，形成多道樱桃篱笆墙。该方法采用高密度种植并形成樱桃篱笆墙的方式，提高了土地利用率，用工量少且可以提高中国樱桃早期产量，方便采摘，在同一棚内可以不同时期开园减少损耗，是一种特别适合观光采摘业发达地区发展的新型栽培模式。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 中国 樱桃 高密度 种植 方法 | ||
【主权项】：
1.一种中国樱桃高密度种植方法，该方法包括以下步骤：1）采用行株距2.0~2.2 m×0.4~0.6m高密度种植；平地挖排水沟，行间采用二种方式之一种植：其一、定植在排水沟2侧，2行之间共用操作道路和采摘路；其二、定植在远离排水沟的中间位置，树体2侧均留出操作道路及采摘路；2）定植后单主干为高干、低干或高干低干组合，形成多道樱桃篱笆墙。
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