[发明专利]正方阵列涡旋光束产生装置、螺旋光束产生装置及应用有效

专利信息
申请号: 201910329831.6 申请日: 2019-04-23
公开(公告)号: CN109991750B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 韩玉晶;张莉;荣振宇;陈小艺 申请(专利权)人: 济南大学
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 张庆骞
地址: 250022 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 本公开提供了一种正方阵列涡旋光束产生装置、螺旋光束产生装置及应用。其中,正方阵列涡旋光束产生装置包括第一分光棱镜,用于将平行光束分成两路,一路透过第一四分之一波片,经第一平面反射镜反射至第一二维正交光栅;另一路透过第二四分之一波片,经第二平面反射镜反射至第二二维正交光栅;经第一二维正交光栅和第一滤波器得到中心区域最亮的四个点光源;经过第二二维正交光栅和第二滤波器得到中心区域最亮的四个点光源;第一滤波器和第二滤波器分别得到的四个点光源均经第二分光棱镜后透过第三傅里叶透镜产生正方阵列涡旋光束。
搜索关键词: 正方 阵列 涡旋 光束 产生 装置 螺旋 应用
【主权项】:
1.一种正方阵列涡旋光束产生装置,其特征在于,包括:第一分光棱镜,其用于将平行光束分成两路,一路平行光束透过第一四分之一波片,经第一平面反射镜反射至第一二维正交光栅;另一路平行光束透过第二四分之一波片,经第二平面反射镜反射至第二二维正交光栅;经过第一二维正交光栅产生的光场经第一傅里叶透镜后在焦面处获得频谱,再经第一滤波器得到中心区域最亮的四个点光源;经过第二二维正交光栅产生的光场经第二傅里叶透镜后在焦面处获得频谱,再经第二滤波器得到中心区域最亮的四个点光源;第一滤波器和第二滤波器分别得到的四个点光源均经第二分光棱镜后透过第三傅里叶透镜产生正方阵列涡旋光束。
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